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吴汉明

中国工程院院士,浙江大学微纳电子学院院长,微电子技术(集成电路制造)专家。长期工作在我国集成电路芯片产业并做出突出贡献。主要从事高密度等离子体深亚微米刻蚀研究,研发了世界上第一套等离子体工艺模拟的商业软件并得到广泛使用。

更新时间 : 2024-11-04 浏览量 : 682
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  • 吴汉明,中国工程院院士,浙江大学微纳电子学院院长微电子技术(集成电路制造)专家

    中国科学技术大学国家示范性微电子学院院长浙江创芯集成电路有限公司董事长,睿力集成电路有限公司独立董事比亚迪半导体股份有限公司独立董事拓荆科技股份有限公司独立董事以及北方华创科技集团股份有限公司独立董事。

    长期工作在我国集成电路芯片产业并做出突出贡献。主要从事高密度等离子体深亚微米刻蚀研究,研发了世界上第一套等离子体工艺模拟的商业软件并得到广泛使用。

    主持、参加了包括国家重大专项在内的0.13微米至14纳米七代芯片大生产工艺技术研发,攻克了包括刻蚀等一系列关键工艺难点,与世界先进水平差距缩小至3至5年。用理论模型支持我国首台大生产等离子体刻蚀机研发。创建了设计IP核技术公共平台,支持芯片制造产业链协同发展。建立的非平衡低温等离子体混合模型/整体模型成作为教案被世界著名大学教科书采用,担任973项目首席科学家负责“量子点存储器和磁存储器技术研发”,发表著作论文100多篇,申报发明专利84项,其中国际专利24项;国家十一五02重大专项项目总负责人;国家十二五重大专项项目首席科学家;国家973项目首席科学家。作为主要负责人,四次获省部级一等奖,包括三次国家科技进步二等奖。2014年荣获“十佳全国优秀科技工作者”称号。曾任“中国半导体技术国际会议(CSTIC)”大会主席,中芯国际集成电路制造有限公司技术研发副总裁,灿芯创智微电子技术(北京)有限公司总裁。  

     

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    2.集成电路产业发展的趋势

    3.“中国芯”制造面临的机遇和挑战”

    4.建设产教融合公共平台,支持IC制造虚拟化智能化

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